真空金屬鍍層厚度測(cè)試儀

XAU光譜分析儀是一款設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)緊湊，模塊精密化程度*的光譜分析儀，采用了下照式C型腔體設(shè)計(jì)，是一款一機(jī)多用型光譜儀。

應(yīng)用核心EFP算法和微光聚集技術(shù)，既保留了專(zhuān)用測(cè)厚儀檢測(cè)微小樣品和凹槽的性能，又可滿足微區(qū)RoHS檢測(cè)及成分分析。

被廣泛用于各類(lèi)產(chǎn)品的質(zhì)量管控、來(lái)料檢驗(yàn)和對(duì)生產(chǎn)工藝控制的測(cè)量使用。

產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)：

• 微小樣品檢測(cè)：最小測(cè)量面積0.03mm2（加長(zhǎng)測(cè)量時(shí)間可小至0.01mm2）

• 變焦裝置算法：可改變測(cè)量距離測(cè)量凹凸異形樣品，變焦距離可達(dá)0-30mm

• 自主研發(fā)的EFP算法：Li（3）-U（92）元素的涂鍍層，多層多元素，甚至有同種元素在不同層也可精準(zhǔn)測(cè)量

• *解譜技術(shù)：減少能量相近元素的干擾，降低檢出限

• 高性能探測(cè)器：SDD硅漂移窗口面積25/50mm2探測(cè)器

• 光路系統(tǒng)：微焦加強(qiáng)型射線管搭配聚焦、光路交換裝置

應(yīng)用領(lǐng)域：

廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)、新能源行業(yè)、5G通訊、五金建材、航天航空、環(huán)保行業(yè)、汽車(chē)行業(yè)、貴金屬檢測(cè)、精密電子、電鍍行業(yè)等多種領(lǐng)域

多元迭代EFP核心算法（ZL號(hào)：2017SR567637）

專(zhuān)業(yè)的研發(fā)團(tuán)隊(duì)在Alpha和Fp法的基礎(chǔ)上，計(jì)算樣品中每個(gè)元素的一次熒光、二次熒光、靶材熒光、吸收增強(qiáng)效應(yīng)、散射背景等多元優(yōu)化迭代開(kāi)發(fā)出EFP核心算法，結(jié)合*光路轉(zhuǎn)換技術(shù)、變焦結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)及穩(wěn)定的多道脈沖分析采集系統(tǒng)，只需要少量的標(biāo)樣來(lái)校正儀器因子，可測(cè)試重復(fù)鍍層、非金屬、輕金屬、多層多元素以及有機(jī)物層的厚度及成分含量。

單涂鍍層應(yīng)用：如Ni/Fe、Ag/Cu等

多涂鍍層應(yīng)用：如Au/Ni/Fe、Ag/Pb/Zn等

合金鍍層應(yīng)用：如ZnNi/Fe、ZnAl/Ni/Cu等

合金成分應(yīng)用：如NiP/Fe，通過(guò)EFP算法，在計(jì)算鎳磷鍍層厚度的同時(shí)，還可精準(zhǔn)分析出鎳磷含量比例。

重復(fù)鍍層應(yīng)用：不同層有相同元素，也可精準(zhǔn)測(cè)量和分析。

如釹鐵硼磁鐵上的Ni/Cu/Ni/FeNdB，第一層Ni和第三層Ni的厚度均可測(cè)量。

選擇一六儀器的四大理由：

1.一機(jī)多用，無(wú)損檢測(cè)

2.最小測(cè)量面積0.002mm2

3.可檢測(cè)凹槽0-30mm的異形件

4.輕元素，重復(fù)鍍層，同種元素不同層亦可檢測(cè)

真空金屬鍍層厚度測(cè)試儀

儀器配置

開(kāi)放式樣品腔 
精密二維移動(dòng)樣品平臺(tái)，探測(cè)器和X光管上下可動(dòng)，實(shí)現(xiàn)三維移動(dòng) 
雙激光定位裝置 
鉛玻璃屏蔽罩 
Si-Pin探測(cè)器 
信號(hào)檢測(cè)電子電路 
高低壓電源 
X光管 
高度傳感器 
保護(hù)傳感器 
計(jì)算機(jī)及噴墨打印機(jī) 性能優(yōu)勢(shì)滿足各種不同厚度樣品以及不規(guī)則表面樣品的測(cè)試需求 
φ0.1mm的小孔準(zhǔn)直器可以滿足微小測(cè)試點(diǎn)的需求 
高精度移動(dòng)平臺(tái)可精確定位測(cè)試點(diǎn)，重復(fù)定位精度小于0.005mm
采用高度定位激光，可自動(dòng)定位測(cè)試高度 
定位激光確定定位光斑，確保測(cè)試點(diǎn)與光斑對(duì)齊 
鼠標(biāo)可控制移動(dòng)平臺(tái)，鼠標(biāo)點(diǎn)擊的位置就是被測(cè)點(diǎn) 
高分辨率探頭使分析結(jié)果更加精準(zhǔn) 
良好的射線屏蔽作用 
測(cè)試口高度敏感性傳感器保護(hù)
技術(shù)指標(biāo)
真空金屬鍍層厚度測(cè)試儀檢出限：可達(dá)2ppm，*薄可測(cè)試0.005μm元素分析范圍：硫（S）～ 鈾（U） 
同時(shí)檢測(cè)元素：*多24個(gè)元素，5層鍍層 
分析含量：2ppm～99.9%
鍍層厚度：50μm以內(nèi)（每種材料有所不同） 
任意多個(gè)可選擇的分析和識(shí)別模型 
相互獨(dú)立的基體效應(yīng)校正模型 
多變量非線性回收程序 
重復(fù)性：可達(dá)0.1%
穩(wěn)定性：可達(dá)0.1%
操作環(huán)境溫度：15℃～30℃ 
電源：交流220V±5V, 建議配置交流凈化穩(wěn)壓電源 
外觀尺寸： 576（W）×495（D）×545（H）mm 
重量：90kg