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    型號:

    鍍Ni標準片類型及參數

    描述:鍍Ni標準片類型及參數
    鍍Ni
    Ni1.89μm/Fe
    Ni3.64μm/Cu
    Ni4.24μm/Cu2.4μm/Fe
    Ni2.16μm/xx
    備注:其它單鍍層,多鍍層,合金層等規格標準片也可定制,歡迎來電!!!

    • 廠商性質

      經銷商
    • 更新時間

      2025-05-18
    • 訪問量

      1979
    詳細介紹
    品牌其他品牌價格區間10萬-20萬
    產地類別國產應用領域醫療衛生,化工,生物產業,電子/電池,包裝/造紙/印刷

    鍍Ni標準片類型及參數

    鍍Ni

    Ni1.89μm/Fe    

    Ni3.64μm/Cu    

    Ni4.24μm/Cu2.4μm/Fe    

    Ni2.16μm/xx    

    備注:其它單鍍層,多鍍層,合金層等規格標準片也可定制,歡迎來電!!!

    常用的鎳銀或鎳金層一般1~3微米。鎳層較厚, 要起阻擋層作用。
    另外鍍的方法上有電鍍和EN鍍,鍍層表面質量不一樣。
    分立半導體器件的電鍍一般采用純錫或錫基和金電鍍,這幾年由于歐洲RoHS指令生效,純錫電鍍較為流行。純錫電鍍有Wisker的問題,所以鍍層厚度的最小值一般要求超過8微米,并配合150C回火。
    不同的封裝工藝,對鍍層的要求不盡一樣,業界沒有固定的標準。只要能做到滿足可靠性就可以了,200-600微英寸。



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