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    型號(hào):

    XTU-A X熒光光譜儀

    描述:XTU-A X熒光光譜儀是一款設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)緊湊,模塊精密化程度*的鍍層測(cè)厚儀,采用了下照式C型腔體設(shè)計(jì),不但可以測(cè)量各種微小樣品,即使大型超出樣品腔尺寸的工件也可測(cè)量,是一款測(cè)量涂鍍層成分及厚度性價(jià)比高、適用性強(qiáng)的機(jī)型。
    該系列儀器使用于平面、微小樣品或者微凹槽曲面深度30mm以內(nèi)的樣品涂鍍層檢測(cè)。
    被廣泛用于各類產(chǎn)品的質(zhì)量管控、來料檢驗(yàn)和對(duì)生產(chǎn)工藝控制的測(cè)量使用。

    • 廠商性質(zhì)

      經(jīng)銷商
    • 更新時(shí)間

      2025-05-18
    • 訪問量

      2565
    詳細(xì)介紹
    品牌其他品牌行業(yè)專用類型通用
    價(jià)格區(qū)間面議儀器種類臺(tái)式/落地式
    應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,生物產(chǎn)業(yè),能源,電子/電池,包裝/造紙/印刷

    儀器簡(jiǎn)介:

    XTU-A X熒光光譜儀是一款設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)緊湊,模塊精密化程度*的鍍層測(cè)厚儀,采用了下照式C型腔體設(shè)計(jì),不但可以測(cè)量各種微小樣品,即使大型超出樣品腔尺寸的工件也可測(cè)量,是一款測(cè)量涂鍍層成分及厚度性價(jià)比高、適用性強(qiáng)的機(jī)型

    該系列儀器使用于平面、微小樣品或者微凹槽曲面深度30mm以內(nèi)的樣品涂鍍層檢測(cè)。

    被廣泛用于各類產(chǎn)品的質(zhì)量管控、來料檢驗(yàn)和對(duì)生產(chǎn)工藝控制的測(cè)量使用。


    產(chǎn)品優(yōu)勢(shì):

    • 快速精準(zhǔn)移動(dòng)定位:高精密微型移動(dòng)滑軌,10-30mm(X-Y)/圈,精度0.005mm

    • 微焦X射線裝置:檢測(cè)面積可小于0.002mm2的樣品,可測(cè)試各微小的部件

    • 高效率正比接收器:即使測(cè)試0.01mm2以下的樣品,幾秒鐘也能達(dá)到穩(wěn)定性

    • 變焦裝置及算法:可對(duì)各種異形凹槽進(jìn)行檢測(cè),凹槽深度測(cè)量范圍可達(dá)0-30mm

    • 對(duì)焦方便:下照式設(shè)計(jì)可以快速定位對(duì)焦樣品


    XTU-A X熒光光譜儀應(yīng)用領(lǐng)域

    廣泛應(yīng)用于電鍍鍍層厚度分析、接插件等電子元器件檢測(cè)、緊固件行業(yè)、五金行業(yè)(家用設(shè)備及配件等,如Cr/Ni/Cu/CuZn(ABS))、汽車零部件、配飾厚度分析、新能源行業(yè)(光伏焊帶絲等)、汝鐵硼磁鐵上的Ni/Cu/Ni/FeNdB、電鍍液的金屬陽離子檢測(cè)等多種領(lǐng)域。

    XTU.jpg


    多元迭代EFP核心算法ZL號(hào):2017SR567637)

    專業(yè)的研發(fā)團(tuán)隊(duì)在Alpha和Fp法的基礎(chǔ)上,計(jì)算樣品中每個(gè)元素的一次熒光、二次熒光、靶材熒光、吸收增強(qiáng)效應(yīng)、散射背景等多元優(yōu)化迭代開發(fā)出EFP核心算法,結(jié)合*光路轉(zhuǎn)換技術(shù)、變焦結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)及穩(wěn)定的多道脈沖分析采集系統(tǒng),只需要少量的標(biāo)樣來校正儀器因子,可測(cè)試重復(fù)鍍層、非金屬、輕金屬、多層多元素以及有機(jī)物層的厚度及成分含量。

    單涂鍍層應(yīng)用:如Ni/Fe、Ag/Cu等

    多涂鍍層應(yīng)用:如Au/Ni/Fe、Ag/Pb/Zn等

    合金鍍層應(yīng)用:如ZnNi/Fe、ZnAl/Ni/Cu等

    合金成分應(yīng)用:如NiP/Fe,通過EFP算法,在計(jì)算鎳磷鍍層厚度的同時(shí),還可精準(zhǔn)分析出鎳磷含量比例。

    重復(fù)鍍層應(yīng)用:不同層有相同元素,也可精準(zhǔn)測(cè)量和分析。

    如釹鐵硼磁鐵上的Ni/Cu/Ni/FeNdB,第一層Ni和第三層Ni的厚度均可測(cè)量。


    技術(shù)參數(shù):

    1. 元素分析范圍:氯(Cl)- 鈾(U)

    2. 涂鍍層分析范圍:氯(Cl)/鋰(Li)- 鈾(U)

    3. 厚度檢出限:0.005μm

    4. 成分檢出限:1ppm

    5. 最小測(cè)量直徑0.2mm(最小測(cè)量面積0.03mm2)

    6. 對(duì)焦距離:0-30mm

    7. 樣品腔尺寸:500mm*360mm*215mm

    8. 儀器尺寸:550mm*480mm*470mm

    9. 儀器重量:45KG

    10. XY軸工作臺(tái)移動(dòng)范圍:50mm*50mm

    11. XY軸工作臺(tái)最大承重:5KG



    選擇一六儀器的四大理由:

    1.一機(jī)多用,無損檢測(cè)

    2.最小測(cè)量面積0.002mm2

    3.可檢測(cè)凹槽0-30mm的異形件

    4.輕元素,重復(fù)鍍層,同種元素不同層亦可檢測(cè)


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